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        深圳市新凱來(lái)工業(yè)機(jī)器有限公司專利技術(shù)

        深圳市新凱來(lái)工業(yè)機(jī)器有限公司共有283項(xiàng)專利

        • 本申請(qǐng)公開(kāi)一種掃描對(duì)焦裝置、對(duì)焦系統(tǒng)、半導(dǎo)體設(shè)備及方法,該裝置包括:干涉掃描模組包括量測(cè)物鏡、參考物鏡和參考反射鏡,其中:量測(cè)物鏡設(shè)置于量測(cè)光路中,用于將量測(cè)光投影至目標(biāo)樣品表面,并接收經(jīng)目標(biāo)樣品反射后返回的量測(cè)信號(hào)光;參考物鏡設(shè)置于參...
        • 本申請(qǐng)涉及半導(dǎo)體領(lǐng)域,公開(kāi)了掩模版組合分離系統(tǒng)、半導(dǎo)體設(shè)備以及掩模版定位方法。該掩模版組合分離系統(tǒng)包括載具,包括用于容置掩模版的托盤(pán),托盤(pán)的頂面設(shè)有用于容納掩模版的至少部分的第一容納部,托盤(pán)設(shè)有一個(gè)或多個(gè)第一特征部,第一特征部沿托盤(pán)的厚...
        • 本申請(qǐng)?zhí)峁┝艘环N耦合器及電子設(shè)備,屬于半導(dǎo)體的領(lǐng)域。該耦合器包括基板、印刷電路板和導(dǎo)熱介質(zhì)。基板設(shè)有安裝面和凹槽。印刷電路板設(shè)于所述安裝面,所述印刷電路板包括傳輸線與耦合線,所述傳輸線與所述耦合線在所述基板的投影位于所述凹槽。所述導(dǎo)熱介...
        • 本申請(qǐng)?zhí)峁┝烁粽裱b置和隔振系統(tǒng)。該隔振裝置包括第一阻尼器,第一阻尼器的軸向一端用于與振動(dòng)裝置連接,第一阻尼器的軸向另一端用于與待隔振的主體設(shè)備連接;以及第二阻尼器,包括相連接的第二框架和一個(gè)或多個(gè)第二阻尼模塊,第二框架與第一阻尼器的軸向...
        • 本申請(qǐng)涉及封裝領(lǐng)域,公開(kāi)了一種封裝腔體、封裝結(jié)構(gòu)、光源模組和半導(dǎo)體設(shè)備,封裝腔體形成安裝腔室,所述安裝腔室內(nèi)安裝有晶體,包括:所述封裝腔體具有觀察窗,所述觀察窗用于為調(diào)試光束提供觀察通道,使得調(diào)試人員能夠從所述封裝腔體的外部觀察所述光束...
        • 本申請(qǐng)?zhí)峁┮环N電荷補(bǔ)償膜、電荷中和裝置以及樣品表面分析設(shè)備,具體涉及光電子能譜儀分析技術(shù)領(lǐng)域。電荷補(bǔ)償膜應(yīng)用于樣品表面分析設(shè)備,樣品表面分析設(shè)備包括承載機(jī)構(gòu)和X射線源,承載機(jī)構(gòu)用于承載樣品,X射線源用于向樣品發(fā)射X射線。電荷補(bǔ)償膜設(shè)置于...
        • 本申請(qǐng)?zhí)峁┮环N鏡頭模組及半導(dǎo)體缺陷檢測(cè)裝置,涉及半導(dǎo)體缺陷檢測(cè)技術(shù)領(lǐng)域,用于解決目前的光闌集成于物鏡的方式會(huì)使物鏡的總體尺寸增大,并使物鏡實(shí)現(xiàn)抗光污染的難度更高的技術(shù)問(wèn)題。該鏡頭模組包括物鏡與變焦筒鏡,物鏡的像方遠(yuǎn)心光路與變焦筒鏡的物方...
        • 本申請(qǐng)?zhí)峁┝艘环N配電系統(tǒng)及配電方法,配電系統(tǒng)包括:源端主配電單元和層級(jí)連接的多層直流配電單元。上述多層直流配電單元中的任一層直流配電單元用于基于連接的上一層直流配電單元提供的輸入電壓為上述任一層直流配電單元連接的負(fù)載供電,負(fù)載具有與上述...
        • 一種平臺(tái)、運(yùn)動(dòng)平臺(tái)及半導(dǎo)體設(shè)備,涉及半導(dǎo)體設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域,旨在解決平臺(tái)受到低頻擾動(dòng)時(shí)測(cè)試精度不高的問(wèn)題。該平臺(tái)包括測(cè)試臺(tái)、減振器及承載結(jié)構(gòu),減振器設(shè)于測(cè)試臺(tái)的一側(cè);承載結(jié)構(gòu)設(shè)于減振器背向測(cè)試臺(tái)的一側(cè),承載結(jié)構(gòu)包括多個(gè)支撐件,支撐件的至少部...
        • 本申請(qǐng)?zhí)峁┝艘环N對(duì)焦檢測(cè)裝置和半導(dǎo)體設(shè)備,主要涉及半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)域,用于解決對(duì)焦檢測(cè)裝置結(jié)構(gòu)較大,難以小型化的問(wèn)題。對(duì)焦檢測(cè)裝置包括:多個(gè)光電轉(zhuǎn)換模塊,模數(shù)轉(zhuǎn)換模塊以及計(jì)算模塊,其中,光電轉(zhuǎn)換模塊,用于將光信號(hào)轉(zhuǎn)換為模擬電信號(hào);模數(shù)轉(zhuǎn)換模...
        • 本申請(qǐng)?zhí)峁┮环N上穹頂、工藝腔室和外延設(shè)備。上穹頂包括窗口部和邊緣部;所述窗口部包括第一表面,所述第一表面用于朝向承載臺(tái);所述邊緣部環(huán)繞連接于所述窗口部的外邊緣,所述邊緣部包括底面和內(nèi)表面,所述底面背向所述窗口部,所述內(nèi)表面連接于所述第一...
        • 本申請(qǐng)?zhí)峁┝艘环N等離子體分布調(diào)控機(jī)構(gòu)及等離子體處理裝置,涉及等離子加工技術(shù)領(lǐng)域,用于解決現(xiàn)有技術(shù)中等離子體徑向密度不均勻造成的中心奇點(diǎn)問(wèn)題。具體的,該等離子體分布調(diào)控機(jī)構(gòu)包括主磁體組件,沿環(huán)形分布;輔助磁體組件,包括至少一對(duì)輔助磁體結(jié)構(gòu)...
        • 本申請(qǐng)實(shí)施例提供一種帶光照裝置的半導(dǎo)體設(shè)備,涉及半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)域,解決半導(dǎo)體器件的性能較差的技術(shù)問(wèn)題。該半導(dǎo)體設(shè)備包括工藝模塊以及半導(dǎo)體光照裝置,半導(dǎo)體光照裝置用于:在晶圓進(jìn)入工藝模塊之前,至少照射圖案化的光刻膠層和/或暴露的抗反射層,對(duì)...
        • 本申請(qǐng)涉及半導(dǎo)體領(lǐng)域,具體涉及等離子體光源和半導(dǎo)體設(shè)備。等離子體光源包括激光模組,用于發(fā)射一個(gè)或多個(gè)激光光束;光學(xué)整形模組,用于對(duì)一個(gè)或多個(gè)激光光束進(jìn)行整形,使激光光束在等離子體容器內(nèi)形成多個(gè)激光光斑,每個(gè)激光光斑用于形成維持一個(gè)等離子...
        • 本申請(qǐng)?zhí)峁┝艘环N外延反應(yīng)腔室的清潔系統(tǒng)及方法,該外延反應(yīng)腔室的清潔系統(tǒng)包括溫度調(diào)節(jié)裝置、壓力調(diào)節(jié)裝置、氣體供應(yīng)裝置和控制裝置。控制裝置用于控制溫度調(diào)節(jié)裝置調(diào)節(jié)外延反應(yīng)腔室的腔室溫度以及控制壓力調(diào)節(jié)裝置調(diào)節(jié)外延反應(yīng)腔室的腔室壓力以建立至少...
        • 本申請(qǐng)涉及半導(dǎo)體層生長(zhǎng)工藝技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種支撐結(jié)構(gòu)、半導(dǎo)體工藝腔體和半導(dǎo)體工藝設(shè)備,支撐結(jié)構(gòu)包括:承載件,承載件上設(shè)有兩個(gè)支臂,兩個(gè)支臂在同一平面內(nèi)延伸,且兩個(gè)支臂相靠近的端部分別與承載件連接,以組合形成弧形狀,兩個(gè)支臂相背離的端...
        • 本申請(qǐng)?zhí)峁┝艘环N固定件和電力設(shè)備,涉及電力設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域,固定件包括基板,基板具有相對(duì)的第一側(cè)和第二側(cè),基板的第一側(cè)設(shè)有至少一個(gè)第一彈片,基板的第二側(cè)設(shè)有至少一個(gè)第二彈片,基板能夠固定至電力設(shè)備的底板上,第一彈片和第二彈片用于將位于基板兩...
        • 本申請(qǐng)?zhí)峁┝私怄i機(jī)構(gòu)、開(kāi)盒裝置、傳輸裝置、半導(dǎo)體設(shè)備及控制方法,涉及半導(dǎo)體領(lǐng)域,解鎖機(jī)構(gòu)包括承載座、驅(qū)動(dòng)組件和頂推組件,承載座用于承載掩膜盒,掩膜盒包括盒體和盒蓋,盒體和盒蓋通過(guò)鎖扣與鎖舌扣合;驅(qū)動(dòng)組件安裝于承載座;頂推組件與驅(qū)動(dòng)組件驅(qū)...
        • 本申請(qǐng)實(shí)施例提供了一種勻氣組件和半導(dǎo)體設(shè)備,涉及半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)域,能夠抑制噴淋裝置周圍寄生等離子體,從而提高半導(dǎo)體設(shè)備的累計(jì)極限,提高生產(chǎn)效率。勻氣組件,勻氣組件包括噴淋裝置和絕緣環(huán),絕緣環(huán)套設(shè)于所述基體的外側(cè);噴淋裝置包括:基體和位于基...
        • 本申請(qǐng)公開(kāi)了一種調(diào)節(jié)組件、運(yùn)動(dòng)臺(tái)和半導(dǎo)體設(shè)備,涉及半導(dǎo)體設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域,調(diào)節(jié)組件包括調(diào)節(jié)件和緊固件;調(diào)節(jié)件用于螺紋連接待調(diào)件,以調(diào)節(jié)待調(diào)件距離運(yùn)動(dòng)軸平臺(tái)的高度;緊固件包括擋止部和連接體,連接體和擋止部連接,連接體用于連接運(yùn)動(dòng)軸平臺(tái),擋止部...
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