本申請實施例公開了一種信號檢測裝置、信號檢測方法及電子設備，通過采集單元采集電子設備中的監測點的至少一個射頻監測信號，并將采集到的每一個射頻監測信號輸出。該每一個射頻監測信號包括多個點頻信號，為了得到目標信號，可通過信號對消單元接收采集...

本申請提供一種X射線熒光光譜儀和量檢測設備，涉及量檢測技術領域。X射線熒光光譜儀包括樣品臺、多毛細管、單色鏡以及探測器；樣品臺用于放置樣品，樣品接收X射線、并被X射線激發出初始熒光，初始熒光包括第一熒光光子和第二熒光光子，第一熒光光子的...

本申請提供了晶圓缺陷分類方法、設備、系統、存儲介質及程序產品，涉及半導體制造技術領域，包括確定待分類晶圓的至少一個缺陷圖像；基于預設的晶圓缺陷分類模型對至少一個缺陷圖像進行缺陷分類，以確定待分類晶圓的缺陷類型；預設的晶圓缺陷分類模型的訓...

本申請實施方式提供一種負載鎖定室及半導體設備。負載鎖定室包括：腔體，設有至少一個充氣端口及第一腔室，所述至少一個充氣端口與所述第一腔室相互連通；第一蓋體，第一蓋體蓋合在所述第一腔室上并與所述腔體連接，所述第一蓋體與所述腔體的內壁共同形成...

本申請實施例提供了一種工藝腔室和半導體設備，半導體設備包括工藝腔室，工藝腔室包括腔體、氣泵和控壓閥；腔體的底部中心設有第一通孔；氣泵設置于腔體外，與第一通孔連通；控壓閥包括閥板和至少一個驅動組件，閥板設置于腔體內且正對第一通孔，至少一個...

本申請實施例提供一種等離子體處理裝置及刻蝕設備，涉及半導體技術領域。等離子體處理裝置包括襯套、遮擋板、驅動機構和止位件；襯套的側壁具有開口，遮擋板與驅動機構連接，驅動機構可控制遮擋板升降，以將開口遮擋；止位件安裝在襯套和遮擋板之間。通過...

本申請涉及射頻技術領域，尤其涉及到一種濾波器。濾波器包括線圈、金屬殼體和調諧組件，金屬殼體具有容納腔，調諧組件設置于金屬殼體，調諧組件可與線圈耦合，調諧組件能夠相對于金屬殼體向靠近或遠離線圈所在的位置移動，以改變所述調諧組件與所述線圈之...

一種散逸板、半導體設備均流箱設計方法和半導體設備，涉及半導體設備技術領域，散逸板，所述散逸板應用于均流箱，所述均流箱上設置有入流口和出流口，所述散逸板用于設置在所述均流箱的均流腔內，所述散逸板沿厚度方向的投影用于覆蓋所述均流箱的所述入流...

本申請提供晶圓的加工調度方法和裝置，該方法包括基于所述目標機臺信息和所述目標晶圓加工信息從離線調度方案庫中查詢離線調度方案；若從所述離線調度方案庫中查詢得到目標離線調度方案，則輸出所述目標離線調度方案作為所述待加工晶圓的加工調度方案；若...

一種光反射組件及其使用方法和交通工具，涉及光源反射技術領域。光反射組件包括光源、反射器、固定軸、連接件和調節機構；固定軸固定連接反射器，連接件連接光源；連接件設有固定軸穿過的第一通孔，固定軸與第一通孔的內壁面之間具有間隙，調節機構和連接...

本申請提供了一種溫度傳感組件、加熱裝置及工藝設備。溫度傳感組件包括溫度傳感器與套筒，套筒套設于溫度傳感器外，溫度傳感器與套筒之間具有第一間隙，套筒上設有與第一間隙連通的第一風槽組，第一風槽組與第一間隙形成第一風道，第一風槽組包括一個或者...

本申請公開了一種晶圓缺陷檢測方法、系統和終端設備，上述方法包括：獲取基于目標運動軌跡運動的目標晶圓的多個第一信號，一個第一信號對應目標運動軌跡中的一個采樣點，每相鄰兩個采樣點的采樣時刻的時間間隔相同；獲取目標晶圓經過各個采樣點時的運動參...

本申請涉及等離子刻蝕技術領域，尤其涉及到一種線圈調節裝置及等離子刻蝕設備。該線圈調節裝置包括：線圈支架和至少兩個升降機構；至少兩個升降機構沿線圈的周向對稱布置；線圈支架具有至少兩個端部；每個端部對應與一個升降機構連接，升降機構能夠驅動端...

本申請涉及工藝設備技術領域，尤其涉及到一種前驅體盒。前驅體盒包括殼體和設置于殼體中的鋼瓶組件和蒸發器組件，殼體設置有第一孔組和第二孔組，第一孔組包括多個第一氣孔和至少一個第一液孔，第二孔組包括多個第二氣孔和至少一個第二液孔；鋼瓶組件中的...

本申請涉及快速熱處理技術領域，尤其涉及到一種燈巢系統及快速熱處理設備。該燈巢系統包括：中空殼體和蜂窩組件；蜂窩組件設在中空殼體內，蜂窩組件包括第一蜂窩件和第二蜂窩件；第一蜂窩件上設有多個第一安裝通孔，第二蜂窩件上設有多個第二安裝通孔，每...

本申請實施例提供一種材料的缺陷信息識別方法、模型訓練方法及設備。該方法包括：通過獲取待識別數據，其中，待識別數據中包括待識別的材料缺陷圖像和至少一種場景數據。然后，根據識別模型對待識別的材料缺陷圖像進行特征提取，得到待識別的材料缺陷圖像...

本申請提供了一種加工裝置以及半導體設備。加工裝置包括腔體、燈頭以及連接體，腔體的周壁設有多個連接軸，多個連接軸沿腔體的周向間隔設置，并均沿腔體的徑向延伸。在腔體的軸向上，燈頭位于腔體的一側。連接體與燈頭抵接，連接體包括多個連接件，多個連...

光源裝置及半導體檢測設備，光源裝置包括激光發生器、匯聚透鏡、放電燈室、檢測模塊和調節模塊，激光發生器用于發射激光束，激光束經匯聚透鏡后入射到放電燈室的內部，放電燈室內的等離子體在激光束的激發下提供照明光束，檢測模塊用于獲取等離子體的空間...

本公開實施例提供一種相機調節方法、裝置、設備及存儲介質。該方法包括：將標定元件移動至待檢測相機對應的檢測位置；并基于待檢測相機拍攝到的標定元件對應的光線的光強分布，對待檢測相機的姿態進行第一次對準調節，再將標定元件移動至待檢測相機檢測范...

本申請實施例公開了一種基于量測標記點的晶圓量測方法和裝置，包括：獲取目標晶圓多個量測標記點的晶圓對準坐標；對多個量測標記點中多個第一量測標記點進行目標捕獲以獲得各個第一量測標記點的坐標偏移量，基于各個第一量測標記點的晶圓對準坐標和坐標偏...